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實驗室研磨機是科研專用小型研磨設備,采用球磨、行星式或剪切研磨技術,可將固體物料細化至微米甚至納米級別。具有體積小巧、操作簡便、研磨精度高、樣品損耗小等特點,適配礦石、粉末、生物樣本等多種物料,廣泛應用于材料、化工、醫藥等領域的實驗研發,為后續分析或制備提供均勻物料。
產品型號:GM2000
廠商性質:生產廠家
更新時間:2025-11-06
訪 問 量:8
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實驗室研磨機
此款比普通的研磨機的速度達到4-5倍以上,研磨效果非常好,轉速可以達到21000RPM。
是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生 向下的螺旋沖擊力,透過定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

GM2000是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。 GM2000實驗室中試型膠體磨的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。 GM2000的定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
SID公司另外一項獨特的創新,就是錐體磨GMO2000系列,它的設計使其功能在原有的GM2000的基礎上又進了一步。由于這項創新,GMO2000能夠濕磨和研磨,產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨GM2000還小。研磨間隙可以無級調節,從而可以得到精確的研磨參數。
研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨GM的效果更加理但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨GM的效果更加理想。

實驗室研磨機設備選型表:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。 | |||||
